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Mechanism of chemical vapor deposition of methoxysilane over zeolites

Takashi Hibino. -- [s.n.], [1991]. <YB03240481>
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No. 巻号 受付日 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却期限日 予約件数
0001 中央館 中央博論 甲||2445||工学 41032755 貸出不可 0件
No. 0001
巻号
受付日
所蔵館 中央館
配置場所 中央博論
請求記号 甲||2445||工学
資料ID 41032755
状態 貸出不可
返却期限日
予約件数 0件

書誌詳細

タイトル / 著者 等 Mechanism of chemical vapor deposition of methoxysilane over zeolites / Takashi Hibino
出版・頒布事項 [S.l.] : [s.n.] , [1991]
形態 138 p. : ill. ; 26 cm
その他のタイトル 翻訳タイトル:ゼオライト上へのメトキシシランの化学蒸着の機構
ゼオライトジョウ エノ メトキシシラン ノ カガク ジョウチャク ノ キコウ
注記 Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 1991
注記 Kind of academic degree: 工学博士
注記 Date degree granted: 1991-03-25
注記 Report number: 甲第2445号
NCID BB14787509
本文言語 英語
著者名リンク 日比野, 高士
ヒビノ, タカシ <>